Hej gäst

Logga in / Registrera

Welcome,{$name}!

/ Logga ut
Svenska
EnglishDeutschItaliaFrançais한국의русскийSvenskaNederlandespañolPortuguêspolskiSuomiGaeilgeSlovenskáSlovenijaČeštinaMelayuMagyarországHrvatskaDanskromânescIndonesiaΕλλάδαБългарски езикAfrikaansIsiXhosaisiZululietuviųMaoriKongeriketМонголулсO'zbekTiếng ViệtहिंदीاردوKurdîCatalàBosnaEuskera‎العربيةفارسیCorsaChicheŵaעִבְרִיתLatviešuHausaБеларусьአማርኛRepublika e ShqipërisëEesti Vabariikíslenskaမြန်မာМакедонскиLëtzebuergeschსაქართველოCambodiaPilipinoAzərbaycanພາສາລາວবাংলা ভাষারپښتوmalaɡasʲКыргыз тилиAyitiҚазақшаSamoaසිංහලภาษาไทยУкраїнаKiswahiliCрпскиGalegoनेपालीSesothoТоҷикӣTürk diliગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaमराठी
Hem > Nyheter > Intel påskyndar 7nm EUV-process och börjar beställa material och utrustning i augusti

Intel påskyndar 7nm EUV-process och börjar beställa material och utrustning i augusti

Enligt Electronic Times tillkännagav Intel planer på att lansera 7nm produkter 2021 i maj i år, och nu intensifieras för att uppnå detta mål. Enligt branschkällor har Intel beställt utrustning och material för EUV-tillverkningsprocessen sedan augusti och påskyndar orderingången.

Samtidigt räknar TSMC med att 7nm och 7nm EUV-processnoder kommer att bli de viktigaste tillväxtdrivarna i år på grund av stark efterfrågan från 5G-sektorn. Enligt rapporter är MediaTek en av kunderna som använder TSMC 7nm. Företaget släppte sitt så kallade världens första sub-6GHz 5G SoC-chip, som förväntas gå i produktion i januari 2020.

Enligt den tidigare vice vd för Intel molnverksamhet är han väldigt optimistisk när det gäller 7nm-produkten som lanserades 2021, ingen olycka är datacentret GPU först.

ASML, världens främsta litografimaskintillverkare, är optimistisk när det gäller den starka efterfrågan på processer under 7 nm under andra halvåret. Dessutom rapporterar utländska medier att ASML aktivt investerar i utvecklingen av en ny generation EUV-litografimaskiner jämfört med tidigare generationer. Den största förändringen av den nya EUV-litografimaskinen är den höga numeriska bländarlinsen. Genom att öka linsspecifikationerna ökar kärnupplösningen för de två stora litografimaskinerna i den nya generationens litografimaskin med 70% och når industriens geometriska krympning. Krav.